Спосіб формування магнітного матеріалу для носія надщільного магнітного запису полягає у формуванні матриці, яка являє собою нанорозмірну плівкову композицію сплаву FeMnPt, яку пошарово наносять на підкладинку монокристалічного SiO2/Si(001). При цьому окремі шари Fe(15 нм) та Pt(15 нм) осаджують з додатковим проміжним шаром Mn товщиною 7,5 нм.