Винахід належить до медичної трансплантології, а саме стосується способу формування антибактеріального покриття на поверхні металевих імплантатів. Антибактеріальне покриття на поверхні формують шляхом впровадження іонів інертних газів на глибину до 200 нм з енергією 6±0,1 кеВ, і доза опромінення поверхні становить 5·10¹⁹ іон·см⁻² у високому вакуумі. Технічний результат: захист від наростання біоплівок з патогенною та умовно патогенною мікрофлорою, здешевлення та спрощення способу.
